El grabado húmedo es un proceso de eliminación de material que utiliza químicos líquidos o grabadores para eliminar materiales de una oblea. Los patrones específicos están definidos por máscaras fotorresistentes en la oblea. Los materiales que no están protegidos por esta máscara se eliminan con productos químicos líquidos.
¿En qué material didáctico se elimina?
Explicación: Etching se refiere a la eliminación de material de la superficie de la oblea. El proceso generalmente se combina con la litografía para seleccionar áreas específicas en la oblea de las cuales se eliminará el material.
¿El grabado elimina material?
El grabado químico es un método de grabado que utiliza un rocío químico de alta presión y alta temperatura para eliminar material y crear una imagen grabada permanente en metal. Se aplica una máscara o resistencia a la superficie del material y se elimina selectivamente, exponiendo el metal, para crear la imagen deseada.
¿Cuáles son los pasos del grabado húmedo?
Un proceso básico de grabado húmedo se puede dividir en tres (3) pasos básicos: 1) difusión del grabador a la superficie para su eliminación; 2) reacción entre el grabador y el material que se está eliminando; y 3) difusión de los subproductos de la reacción desde la superficie reaccionada.
¿Qué se usa para eliminar material en el grabado en seco?
El grabado en seco se refiere a la eliminación de material, generalmente un patrón enmascarado de material semiconductor, al exponer elmaterial a un bombardeo de iones (generalmente un plasma de gases reactivos como fluorocarbonos, oxígeno, cloro, tricloruro de boro; a veces con adición de nitrógeno, argón, helio y otros gases) que …
